Des puces par nanoimpression d'une résolution de 11 nanomètres chez Canon

Vu ailleurs Le groupe japonais Canon démontre la possibilité de réaliser des puces électroniques par nanoimpression avec une résolution de 11 nanomètres. La mise en production de volume de cette technologie est attendue en 2017 chez Toshiba.

Ridha Loukil |

Publié le 18 novembre 2015 à 14H57

Electronique, Innovation, Vu ailleurs

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La lithographie par nanoimpression, une nouvelle technologie prometteuse de création de motifs de circuits intégrés par impression, se fait plus précise. Canon, l’un de ses grands promoteurs, vient de démontrer la possibilité de l’utiliser pour réaliser des puces électroniques avec une résolution de seulement 11 nanomètres. La démonstration a eu lieu lors de Canon Expo Tokyo, qui s’est tenue dans la capitale japonaise les 4 et 6 novembre 2015. Le résultat est rapporté par le journal Nikkei Technology dans son article en ligne.

En phase avec la prochaine génération de puces électroniques

Aujourd’hui, les circuits intégrés électroniques les plus avancés, obtenus par la lithographie optique traditionnelle, présentent une résolution de 14 nanomètres. Et on devrait passer à la génération de 10 nanomètres à la fin de 2016. La lithographie par nanoimpression est donc prête pour la prochaine génération de puces électroniques.

Avec la lithographie optique classique, les motifs de circuits intégrés s’obtiennent par exposition à ultra violets. La résolution dépend de la longueur d’onde de rayons d’exposition. Avec la lithographie par nanoimpression, les motifs s’obtiennent par impression à l’aide d’un moule.

Développement avec Toshiba

Canon travaille sur le développement de cette technologie avec Toshiba dans le but de la mettre en œuvre dans la production de mémoires flash. Une famille de puces électroniques qui présente l’avantage de faire appel à un motif répétitif régulier. Un défaut sur quelques cellules mémoires ne remet pas en cause le fonctionnement du circuit.

La commercialisation, prévue au départ à la fin de cette année, est reportée par Canon à 2016, avec l’objectif de mise en production à grand volume de mémoires flash chez Toshiba en 2017.

Ridha Loukil